工艺因素对磁控溅射法制备钛酸锶钡薄膜性能的影响

• 作者: 刘行冰 张玉芹 成计平 符春林 邓小玲
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 BST薄膜 工艺参数 性能
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 2544-2549
• 页数: 6页
• 分类号: TQ177
• 字数: 3088字
• 语种: 中文

摘要

磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用.本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上,详细分析了溅射工艺参数(溅射功率、温度、溅射气压、氧分压)对BST薄膜性能的影响,并提出了研究中需要解决的一些问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	符春林	重庆科技学院冶金与材料工程学院	77	351	10.0	15.0
2	刘行冰	重庆科技学院冶金与材料工程学院	5	14	3.0	3.0
3	成计平	重庆科技学院冶金与材料工程学院	2	8	2.0	2.0
4	邓小玲	重庆科技学院冶金与材料工程学院	36	175	8.0	12.0
5	张玉芹	重庆科技学院冶金与材料工程学院	3	5	1.0	2.0