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有机玻璃衬底磁控溅射ITO膜的制备与性能研究
有机玻璃衬底磁控溅射ITO膜的制备与性能研究
作者:
冯海兵
张运生
杨幼然
王永斌
马晓娜
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
ITO薄膜
有机玻璃
磁控溅射
透光率
方块电阻
摘要:
在低温条件下采用直流磁控溅射法在有机玻璃(PMMA)衬底上制备了ITO薄膜.分别采用分光光度计、四探针测试仪研究了底涂层、衬底温度、氧流量、溅射时间对PMMA上沉积的ITO薄膜性能的影响.研究结果表明:涂覆底涂层有助于ITO成膜;衬底温度影响薄膜的方块电阻值;适当增大O2流量可以提高薄膜的透射率,但过高的O2流量降低薄膜的导电性;溅射时间延长,方块电阻值减小.优化工艺后制备的ITO薄膜为非晶态膜,可见光平均透过率达83.5%,方块电阻为22 Ω/□.
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篇名
有机玻璃衬底磁控溅射ITO膜的制备与性能研究
来源期刊
半导体光电
学科
物理学
关键词
ITO薄膜
有机玻璃
磁控溅射
透光率
方块电阻
年,卷(期)
2014,(1)
所属期刊栏目
材料、结构及工艺
研究方向
页码范围
69-72,117
页数
分类号
O484
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
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马晓娜
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半导体光电
主办单位:
重庆光电技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-5868
CN:
50-1092/TN
开本:
大16开
出版地:
重庆市南坪花园路14号44所内
邮发代号:
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
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