沉积时间对钼薄膜结构和热疲劳性能的影响

• 作者: 于敦波 张丽霞 朱晓岗 杨远飞 王波
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 钼薄膜 磁控溅射 热疲劳 电子束
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 10-14
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2014.03.002

摘要

采用直流磁控溅射在不同沉积时间条件下制备钼薄膜,并用电子束热负荷装置对薄膜进行热疲劳性能试验,利用X射线衍射仪(XRD)对其结构和残余应力状态进行测试分析,用扫描电镜(SEM)对钼薄膜热疲劳前后形貌进行表征.结果表明:薄膜沿(110)取向择优生长,呈柱状晶结构,薄膜内存在张应力,残余应力随沉积时间增加而逐渐减小.热循环试验后均未出现薄膜脱落现象,但均产生表面裂纹.随着沉积时间由4h增加至8h,疲劳裂纹由穿晶断裂的直线裂纹转变为沿晶开裂的曲折裂纹,同时成膜过程中的退火效应使薄膜的晶粒长大、晶粒结构更加趋于完整、残余应力减小,从而使薄膜疲劳裂纹减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王波	北京工业大学薄膜材料与技术研究室	80	638	11.0	23.0
2	于敦波		11	63	4.0	7.0
3	朱晓岗	北京工业大学薄膜材料与技术研究室	1	11	1.0	1.0
4	张丽霞	航天科工防御技术研究试验中心三室	2	18	2.0	2.0
5	杨远飞		1	11	1.0	1.0