基于常温磁控溅射法的二氧化钒薄膜制备方法研究

• 作者: 刘星星
• 来源期刊: 红外
• 学科: 物理学
• 关键词: 二氧化钒 磁控溅射 相变 智能窗
• 年，卷（期）: 2014,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 24-28,43
• 页数: 6页
• 分类号: O482
• 字数: 3372字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-8785.2014.07.006

摘要

采用常温磁控溅射法制备金属钒薄膜,然后在合适的氧气氛围下对其进行退火氧化处理,最终在非晶玻璃衬底上制备出具有相变的高性能二氧化钒(Vanadium Dioxide,VO2)薄膜.X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD)测试结果表明,所制薄膜的主要成分为VO2;扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)测试结果表明,所制薄膜的结晶性良好,晶粒粗细均匀.该薄膜在室温下的红外光透过率(2400 mm处)为67％,在高温下的红外光透过率(2400 mm处)为9％.其透过率差值为58％,因此具有良好的红外透过率调节能力.同时还测试分析了薄膜光学转变与电学转变的差异,发现电学转变温度比光学转变温度高4.7℃.该方法适合大面积VO2薄膜的制备,对智能窗的研究与应用具有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘星星	中国科学院上海技术物理研究所	6	13	3.0	3.0