AISI M2钢上磁控溅射TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜的显微结构

• 作者: 欧士辅 王翠凤 邱锡荣
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: 薄膜 TiAlVN薄膜 溅射率 晶向关系
• 年，卷（期）: 2014,（8）
• 所属期刊栏目: Functional Materials
• 页码范围: 2558-2564
• 页数: 7页
• 字数: 732字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(14)63383-5

摘要

为了研究Al和V掺杂对TiN薄膜微结构的影响，用磁控溅射法在AISI M2高速钢上沉积TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜。采用XRD、SEM和TEM对薄膜的显微结构进行表征。结果表明，TiN薄膜中掺杂Al引起了晶格常数的降低，TiAlN中掺杂V则导致晶格常数的增加。另外，TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜的生长形态显示，添加Al和V有改善柱状结构的倾向。在TiN、TiAlN和TiAlVN薄膜中鉴定出(111)和(200)晶向，ε(Fe3N-Fe2N)相的存在是因为薄膜中存在少量的Fe。TiAlN和TiAlVN薄膜夹层具有(0110)择优取向。在TiAlN和TiAlVN薄膜中观察到(111)和(200)晶向的织构(柱状)结构，在TiAlVN/M2夹层和回火马氏体之间存在(0110)α-Ti//(110)T.M的位向关系。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王翠凤	福建信息职业技术学院机电工程系	28	87	5.0	7.0