现代纳米集成电路质子单粒子效应研究进展

• 作者: 何安林 刘建成 史淑廷 宋雷 沈东军 范辉 郭刚
• 来源期刊: 现代应用物理
• 学科: 工学
• 关键词: 质子 单粒子效应 核反应 直接电离
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 辐射效应及加固技术
• 页码范围: 118-124
• 页数: 7页
• 分类号: TN406
• 字数: 3921字
• 语种: 中文

摘要

近年来,随着半导体工艺技术的迅速发展,质子单粒子效应研究的重要性上升到了一个新的高度.综述了国际上纳米集成电路质子单粒子效应研究的主要进展,如低能质子成为纳米集成电路单粒子效应和软错误率的主要贡献因素,中高能质子与新型器件材料(如钨)核反应研究成为质子单粒子效应新的热点问题,介绍了中国原子能科学研究院在纳米集成电路低能质子实验方面开展的相关工作.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘建成	中国原子能科学研究院核物理研究所	28	107	6.0	9.0
2	郭刚	中国原子能科学研究院核物理研究所	34	65	4.0	7.0
3	何安林	中国原子能科学研究院核物理研究所	5	6	2.0	2.0
4	沈东军	中国原子能科学研究院核物理研究所	8	6	2.0	2.0
5	史淑廷	中国原子能科学研究院核物理研究所	7	5	2.0	2.0
6	范辉	中国原子能科学研究院核物理研究所	5	7	2.0	2.0
7	宋雷	中国原子能科学研究院核物理研究所	3	4	2.0	2.0