调制周期对TiN/Ti多层膜组织结构和结合力的影响

• 作者: 杜菲菲 杨波 肖娜
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 反应磁控溅射 TiN/Ti 调制周期 结合力
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 65-69
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.2015.02.006

摘要

为了阐明调制周期对薄膜微观组织及薄膜与基体结合力的影响,采用反应磁控溅射在Ti6Al4V基板上交替沉积了Ti层及TiN层制备了TiN/Ti多层膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度仪和划痕仪测量分析了薄膜的晶体结构、微观组织、硬度以及薄膜与基体之间的结合力.研究结果表明:TiN/Ti多层膜中均存在TiN,Ti和Ti2N 3种相.TiN/Ti多层膜均以柱状晶方式生长,在调制周期较大(5层)时,TiN和Ti层的界面清晰;随着调制周期的减小(层数增加),TiN和Ti层的界面逐渐消失.与单层TiN薄膜相比,多层TiN/Ti薄膜的硬度显著提高;但随着薄膜层数的增加,多层TiN/Ti薄膜硬度略微降低.当调制周期为80 nm(30层)时,薄膜与基体的结合力明显提高,达到73 N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨波	东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室	38	152	6.0	10.0
2	肖娜	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	14	17	3.0	3.0
3	杜菲菲	东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室	5	15	3.0	3.0