YSZ/Al2O3复合薄膜高温绝缘层的研究

• 作者: 张万里 张洁 杨晓东 蒋书文 蒋洪川
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 电子束蒸发 Al2O3 YSZ 复合薄膜结构 高温绝缘
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 13-16
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+2
• 字数: 3366字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2015.02.003

摘要

采用电子束蒸发、射频磁控溅射、等离子喷涂等方法，在镍基高温合金基底上制备 YSZ（质量分数12%Y2O3稳定的 ZrO2）、Al2O3复合薄膜结构绝缘层，并研究了复合薄膜结构绝缘层在室温到800℃范围内的绝缘特性，以及高温对复合薄膜晶体结构和表面形貌的影响。结果表明：晶态 YSZ/非晶态 YSZ/Al2O3结构绝缘层在室温下的绝缘电阻大于1.2 GΩ，在800℃大气环境下有150 kΩ左右的绝缘电阻。在室温到800℃范围内，随温度升高其绝缘电阻呈近指数下降的变化规律。经过在800℃大气环境中热处理8 h，YSZ的立方相结构未发生改变，Al2O3表面十分致密，表明该复合结构绝缘层薄膜具有良好的高温绝缘性能和稳定性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋洪川	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	74	586	12.0	19.0
2	张万里	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	142	705	13.0	17.0
3	蒋书文	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	30	197	7.0	12.0
4	张洁	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	12	46	3.0	6.0
5	杨晓东	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	3	10	3.0	3.0