采用关键路径漏电流变化分析的集成电路老化预测方法

• 作者: 李晓维 邱吉冰 靳松 韩银和
• 来源期刊: 计算机辅助设计与图形学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 负偏置温度不稳定性 漏电流 老化 工艺偏差
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 页码范围: 371-378
• 页数: 8页
• 分类号: TP306+.2
• 字数: 5961字
• 语种: 中文

摘要

为了应对集成电路老化对电子系统可靠性带来的威胁，提出一种应用关键路径漏电流变化进行负偏置温度不稳定性老化预测的方法。首先用被测芯片在一组测量向量敏化下的漏电流变化构成一个方程组，通过解方程组得到关键路径门电路的漏电流变化；然后通过漏电流变化与时延变化的关联模型，将漏电流变化转换得到门电路延迟变化；最后通过关键路径延迟变化来预测电路老化。对实验电路的仿真结果表明，该方法可用来预测负偏置温度不稳定性引起的电路老化，并且可通过增加测量时间来避免工艺偏差对预测精度的影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩银和	中国科学院计算技术研究所计算机体系结构国家重点实验室	48	573	12.0	22.0
5	李晓维	中国科学院计算技术研究所计算机体系结构国家重点实验室	127	1467	20.0	32.0
9	靳松	华北电力大学电气与电子工程学院	14	182	7.0	13.0
10	邱吉冰	中国科学院计算技术研究所计算机体系结构国家重点实验室	3	9	2.0	3.0