磁控溅射LaB6薄膜光学性能研究

• 作者: 吴华杰 林祖伦 王小菊 邓江
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 六硼化镧薄膜 晶向 透光率
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 固态电子器件及材料
• 页码范围: 480-484
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 2446字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2015.03.002

摘要

采用磁控溅射法在玻璃基片上沉积LaB6薄膜。通过改变溅射功率参数,获得最佳制备工艺条件。采用XPS、X射线衍射仪和分光光度计研究薄膜的成分、结构、晶向以及透过率。当溅射功率为44 W,氩气气压为1.5 Pa,氩气流量为27 sccm时制备的LaB6薄膜表面相对平整,结构致密。 XRD数据也表明,此时LaB6薄膜结晶度最高且(110)晶面发生明显的择优生长。同时分光光度计结果显示：薄膜的透过率随溅射时间的增加而降低,并且最高透过率对应的波长没有发生变化。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林祖伦	电子科技大学光电信息学院	76	442	10.0	15.0
2	王小菊	电子科技大学光电信息学院	43	141	9.0	9.0
3	邓江	电子科技大学光电信息学院	4	15	1.0	3.0
4	吴华杰	电子科技大学光电信息学院	1	0	0.0	0.0