等离子体增强原子层沉积Al2O3钝化多晶黑硅的研究

• 作者: 宋扬 岳之浩 张磊 徐浩 李杰 沈鸿烈 舒栩 蒋晔 邹健
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体增强原子层沉积 黑硅 钝化 减反射
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 太阳能利用技术
• 页码范围: 105-108
• 分类号: TB34
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.01.19

摘要

黑硅的纳米结构可以大大降低硅表面的入射光反射率,同时由于比表面积的增加使其钝化成为难题,从而影响其太阳电池的性能.等离子体增强原子层沉积(PEALD)法沉积的Al2O3钝化层具有良好的保型性和致密性,适用于黑硅纳米微结构的钝化.本文使用金属辅助化学法制备多晶黑硅,再经低浓度碱溶液处理优化黑硅结构,最后用PEALD沉积了不同厚度的Al2O3钝化层.采用扫描电镜、分光光度计和少子寿命测试仪对黑硅的表面形貌、减反射特性和少子寿命变化进行了分析.结果表明碱溶液处理后黑硅表面结构变得更为平滑,Al2O3钝化的黑硅经退火后少子寿命达到8.96 μs,在可见光范围内反射率降低至3.7％,与传统制绒工艺的多晶硅片相比性能有明显提升.