氢钝化对低温沉积nc-SiOx/SiO2多层薄膜发光特性影响机制研究

• 作者: 于威 任丽坤 刘建苹 张瑜 李云 王新占 赖伟东 郑燕
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: nc-SiOx/SiO2 低温沉积 光致发光 氢钝化
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 页码范围: 3559-3564
• 页数: 6页
• 分类号: O782
• 字数: 3773字
• 语种: 中文

摘要

采用等离子体增强化学气相沉积技术实现了nc-SiOx/SiO2多层结构薄膜在220℃的低温沉积,并对其450℃N2+ H2形成气体退火前后的微结构及其发光特性进行了研究.结果表明,直接沉积的纳米硅多层薄膜未观察到较明显的室温发光,而形成气体退火后样品出现峰值位于780 nm附近较强的光致发光,归因于活性氢能有效钝化纳米硅表面悬键,提高了材料的发光强度.结合瞬态发光谱分析,采用量子限制-发光中心模型可以合理解释纳米硅多层结构的发光特性.