单组分化学增幅型光致抗蚀剂LB膜的制备及光刻应用

• 作者: 李铁生 杨志广 杨欢欢 王筠
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 光致产酸剂 化学增幅 LB膜技术 光刻
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 开发与应用
• 页码范围: 228-230
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

合成了光致产酸剂N-对甲苯磺酸酯马来酰亚胺(TsOMI),及其与十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)、对叔丁氧基苯乙烯碳酸酯(t-BOCSt)聚合得到三元共聚物.研究了该聚合物分子在气/液界面的成膜性,LB膜的光敏性和光刻性能.结果表明:该聚合物分子可在不同材质的基板上制备规整均匀的LB膜,在250nm紫外光照下,LB膜表现出化学增幅作用.以40层该聚合物LB膜为抗蚀层,经紫外曝光20min、显影10s后可得到分辨率为0.75μm(该掩膜所能达到的最大分辨率)的正型LB膜图形,进一步刻蚀得到分辨率为0.75μm的金膜图形.