溅射制备材料的机理分析

• 作者: 张岿
• 来源期刊: 今日湖北（中旬刊）
• 关键词: 溅射镀膜 机理分析 新技术
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: KE XUE JI SHU 科学技术
• 页码范围: 74-74
• 页数: 1页
• 字数: 2093字
• 语种: 中文

摘要

溅射技术属于PVD（物理气相沉积）技术的一种，是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被溅射的物质制成的靶电极（阴极），并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并最终在衬底上沉积成膜的方法。本文就以溅射技术在SiC薄膜沉积中的应用为典例对其进行机理分析。