InSb红外焦平面器件台面刻蚀工艺研究

• 作者: 亢喆 李海燕 谭振
• 来源期刊: 激光与红外
• 学科: 工学
• 关键词: 电感耦合等离子体(ICP) 锑化铟 台面刻蚀 刻蚀速率 刻蚀形貌
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 红外技术及应用
• 页码范围: 72-75
• 页数: 4页
• 分类号: TN214
• 字数: 2199字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5078.2016.01.014

摘要

传统的湿法腐蚀工艺由于各向同性的特点,象元钻蚀严重,导致器件占空比下降,限制了锑化铟大面阵红外焦平面的发展.基于电感耦合等离子体(ICP)刻蚀技术,以BCl3/Ar为刻蚀气体,研究了不同气体配比、工作压力、RF功率对刻蚀效果的影响,获得了适用于锑化铟焦平面制备工艺的干法刻蚀技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谭振		13	15	3.0	3.0
2	李海燕		10	12	3.0	3.0
3	亢喆		7	9	2.0	2.0