硼掺杂金刚石薄膜电极上二氯酚的电化学阻抗谱研究

• 作者: 冯玉杰 刘峻峰 吕江维 曲有鹏
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 硼掺杂金刚石 循环伏安 电化学阻抗谱 二氯酚 电催化
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 物理化学
• 页码范围: 142-148
• 页数: 7页
• 分类号: O646
• 字数: 3927字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7503/cjcu20150369

摘要

以2,4-二氯酚(2,4-DCP)和2,6-二氯酚(2,6-DCP)为模型污染物,采用循环伏安法和电化学阻抗谱研究了硼掺杂金刚石(BDD)电极上2种氯酚的电催化氧化过程.结果表明,2,4-DCP和2,6-DCP的氧化电位分别为1.55和1.62 V.等效电路拟合结果表明,当极化电位由开路电位提高至1.5V时,2种氯酚的电荷转移电阻均有明显下降,反应控制步骤为扩散控制步骤.与2,6-DCP相比,2,4-DCP在BDD电极上更容易发生直接电化学氧化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯玉杰	哈尔滨工业大学城市水资源与水环境国家重点实验室	112	2348	25.0	45.0
2	吕江维	哈尔滨商业大学药学院	28	64	4.0	7.0
3	曲有鹏	哈尔滨工业大学生命科学与技术学院	9	56	4.0	7.0
4	刘峻峰	哈尔滨工业大学城市水资源与水环境国家重点实验室	23	838	12.0	23.0