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光学元件改性处理对激光损伤阈值的影响
光学元件改性处理对激光损伤阈值的影响
作者:
周炼
徐曦
李亚国
袁志刚
赵世杰
陈贤华
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
熔石英
光学元件
激光损伤阈值
化学改性
刻蚀速率
表面粗糙度
机械特性
摘要:
针对355 nm激光作用于熔石英光学元件后其损伤阈值容易变差的问题,提出使用1.7%纯HF溶液和0.4%HF与1.2%NH4F混合的BOE溶液对样品进行处理来提高它们的激光诱导损伤阈值(LIDT).在相同的条件下将熔石英光学元件浸没到上述两种不同的刻蚀溶液中进行处理,通过测量刻蚀过程中元件重量变化来计算刻蚀速率,利用Zygo轮廓仪测试元件表面粗糙度,然后对355 nm激光照射下熔石英元件的损伤阈值情况进行研究.损伤测试表明,LIDT与元件的材料去除深度有关系,用两种刻蚀液刻蚀去除一定深度后,LIDT均有增加,但是进一步去除会显著地降低元件的LIDT.在处理过程中,这两种刻蚀液的去除速率都很稳定,分别为85.9 nm/min和58.6 nm/min左右.另外,元件表面的粗糙度会随着刻蚀时间的增加而变大.在刻蚀过程中还通过纳米技术测量了熔石英元件表面的硬度及杨氏系数,不过没有证据表明其与激光诱导损伤有明确的关系.
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文献信息
篇名
光学元件改性处理对激光损伤阈值的影响
来源期刊
光学精密工程
学科
工学
关键词
熔石英
光学元件
激光损伤阈值
化学改性
刻蚀速率
表面粗糙度
机械特性
年,卷(期)
2016,(12)
所属期刊栏目
高功能激光光学元器件
研究方向
页码范围
2956-2961
页数
6页
分类号
TQ171.734|TN305.2
字数
2008字
语种
中文
DOI
10.3788/OPE.20162412.2956
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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赵世杰
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陈贤华
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袁志刚
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李亚国
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引证文献(1)
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光学元件
激光损伤阈值
化学改性
刻蚀速率
表面粗糙度
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
光学精密工程
主办单位:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国仪器仪表学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-924X
CN:
22-1198/TH
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-166
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
6867
总下载数(次)
10
总被引数(次)
98767
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