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RF#SOI技术的发展及其应用
RF#SOI技术的发展及其应用
作者:
段宗明
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SOI
集成电路
技术发展
摘要:
绝缘体上硅SOI(Silicon)on)Insulator)是一种用于集成电路的材料,具有更好的隔离性能、更高的工作速度,同时具有更低的功耗和良好的抗辐照性能,在高速电路、射频(RF)等领域应用广泛。
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文献信息
篇名
RF#SOI技术的发展及其应用
来源期刊
中国科技投资
学科
关键词
SOI
集成电路
技术发展
年,卷(期)
2016,(21)
所属期刊栏目
DESIGN'AND'APPLICATION 设计与应用
研究方向
页码范围
301-301
页数
1页
分类号
字数
1556字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
段宗明
中国电子科技集团公司第38研究所
5
28
3.0
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期刊影响力
中国科技投资
主办单位:
中国信息协会
出版周期:
旬刊
ISSN:
1673-5811
CN:
11-5441/N
开本:
大16开
出版地:
北京市
邮发代号:
82-979
创刊时间:
2002
语种:
chi
出版文献量(篇)
55421
总下载数(次)
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总被引数(次)
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