不同氟源对FTO薄膜结构和性能的影响

• 作者: 杨静凯 牛孝友 王丽 王立坤 赵洪力 郁建元
• 来源期刊: 燕山大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化锡薄膜 掺杂 氟 喷雾热解 光电性能
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 365-370
• 页数: 6页
• 分类号: TK412
• 字数: 2815字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-791X.2017.04.013

摘要

采用喷雾热解法制备了氟掺杂的二氧化锡(fluorine-doped tin oxide,FTO)薄膜,氟源分别为NH4F、SnF2、CF3 COOH和HF.采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜对薄膜微观结构和表面形貌进行了表征;用四探针电阻仪、霍尔效应仪和紫外分光光度计对薄膜的光电性能进行了分析.结果表明,不同氟源制备的FTO薄膜均为沿(200)方向择优生长的四方金红石结构,掺杂后薄膜的表面形貌较未掺杂时变化较大,由多角状和棱柱状颗粒相间分布变为完全由类金字塔状颗粒堆积而成.四种氟源中,以SnF2为氟源制备的FTO薄膜的光电性能优于其它氟源,薄膜的最佳电阻率达5.06×10-4Ωcm,载流子浓度为4.850×1020cm-3,光学带隙为4.03 eV.不同氟源对FTO薄膜可见光区透过率影响不大,薄膜的平均透过率均大于83%.不同氟源FTO薄膜的性能差异主要由氟的掺杂量决定的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵洪力	燕山大学材料科学与工程学院	31	150	6.0	10.0
2	杨静凯	燕山大学国防科学技术学院	8	14	3.0	3.0
3	郁建元	燕山大学材料科学与工程学院	15	25	3.0	4.0
5	王丽	燕山大学材料科学与工程学院	10	25	3.0	4.0
8	王立坤	燕山大学材料科学与工程学院	6	10	2.0	3.0
9	牛孝友	燕山大学材料科学与工程学院	2	3	1.0	1.0