感应耦合等离子体刻蚀机的原理与故障分析

• 作者: 雷宇
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 感应耦合等离子体 干法刻蚀 故障分析
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 电子专用设备研究
• 页码范围: 59-62
• 页数: 4页
• 分类号: TN405.98+2
• 字数: 3269字
• 语种: 中文

摘要

介绍了IC PE法工艺的基本原理及其设备的基本结构.分析了影响IC P工艺刻蚀速率的主要因素.根据多年维修经验,分析总结了ICP设备常见故障现象并给出了相应的解决方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷宇	中国电子科技集团公司第十三研究所	6	14	2.0	3.0