化学气相沉积法硅薄膜的制备及其性能

• 作者: 刘彦军 孙家祥 徐同宽
• 来源期刊: 大连工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅薄膜 防腐性 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 轻工与化学工程
• 页码范围: 106-108
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 1830字
• 语种: 中文

摘要

运用化学气相沉积技术在不锈钢表面沉积了一层致密的硅薄膜,研究了沉积温度及硅烷气体压力对硅薄膜性能的影响.对沉积的硅薄膜进行了EDS能谱分析,通过SEM扫描电镜对硅薄膜微观形貌进行表征,并对沉积硅薄膜的不锈钢样品进行电化学分析,研究了硅薄膜对不锈钢抗腐蚀性能的影响.结果表明,化学气相沉积温度为390℃、硅烷气压为10 kPa时金属表面形成的硅薄膜防腐性能最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐同宽	大连工业大学轻工与化学工程学院	23	119	5.0	10.0
2	刘彦军	大连工业大学轻工与化学工程学院	40	123	6.0	10.0
3	孙家祥	大连工业大学轻工与化学工程学院	1	1	1.0	1.0