中频非平衡磁控溅射TiAlN薄膜的结构与性能

• 作者: 安小建 左伟峰 左龙 程玺儒 赵广彬
• 来源期刊: 西华大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN薄膜 磁控溅射 力学性能
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 先进材料及能源
• 页码范围: 78-82
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3673字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-159X.2017.04.012

摘要

采用中频非平衡磁控溅射离子镀设备在YG10硬质合金表面制备(Ti1-xAlx)N薄膜,运用X线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度计和材料表面性能测试仪等对薄膜进行表征,分析氮气分压、直流偏压和Al含量对薄膜的力学性能、薄膜成分和组织结构的影响.结果表明:薄膜呈柱状多晶组织,主要组成相为(Ti,Al)N相;随着氮气分压增大,膜层中氮原子增多,而铝、钛原子含量减少,膜层中rAl/(Al+Ti)与r(Al+Ti)/N均下降,薄膜(111)晶面取向减弱,(220)和(200)晶面取向增强.力学性能测试表明,随着膜层中的Al含量和直流偏压升高,薄膜硬度、膜厚和膜-基结合力均呈现先升高后降低的趋势,薄膜显微硬度最高2 915 HV,膜-基结合力最高达73 N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵广彬	西华大学材料科学与工程学院	24	89	6.0	7.0
2	安小建	西华大学材料科学与工程学院	3	13	2.0	3.0
3	左伟峰	西华大学材料科学与工程学院	4	4	1.0	1.0
4	程玺儒	西华大学材料科学与工程学院	5	5	1.0	1.0
5	左龙	西华大学材料科学与工程学院	4	6	1.0	2.0