化学刻蚀工艺参数对刻蚀速率的影响

• 作者: 李成福 沈璐 王晓霞 王洪祥
• 来源期刊: 佳木斯大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 化学刻蚀 刻蚀速率 工艺参数 熔石英元件 亚表面裂纹
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 页码范围: 409-412
• 页数: 4页
• 分类号: TG580.692
• 字数: 2731字
• 语种: 中文

摘要

本文系统分析了化学刻蚀过程中反应生成的扩散和物质传输规律,得到了刻蚀工艺参数如时间、温度、HF酸浓度、辅助试剂对刻蚀速率的影响规律.结果表明:在刻蚀时间较短时刻蚀速率基本恒定,随着时间的增加刻蚀速率呈现逐渐下降的趋势.温度的升高改变了反应物质的活化能和溶液的传输特性,促使刻蚀速率加快.随HF酸浓度的增大刻蚀速率有很大的提高,但反应过快不宜控制刻蚀进程,而采用缓冲氧化物刻蚀剂有利于提高熔石英元件化学刻蚀速率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王洪祥	哈尔滨工业大学机电工程学院	67	690	16.0	23.0
2	王晓霞	佳木斯大学机械工程学院	41	132	6.0	10.0
3	沈璐	哈尔滨工业大学机电工程学院	2	0	0.0	0.0
4	李成福	哈尔滨工业大学机电工程学院	5	21	3.0	4.0