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摘要:
"超精密加工"作为精度极高的一项加工技术正在逐步兴起,归纳总结了硅晶片的超精密切削、磨削和研磨的加工方法,分析了硅晶片超精密加工的研究现状,并对硅晶片超精密加工的发展趋势和今后的研究工作进行了展望.对超精密加工方法的研究,为推动集成电路向更高层次的发展奠定了基础..
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文献信息
篇名 半导体硅晶片超精密加工研究
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 半导体 硅晶片 超精密加工 磨削 抛光
年,卷(期) 2018,(1) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 7-13
页数 7页 分类号 TN305
字数 6175字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2018.01.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李媛 中国电子科技集团公司第四十六研究所 7 3 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
半导体
硅晶片
超精密加工
磨削
抛光
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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