基于磁控溅射和ICP刻蚀的RB-SiC表面平坦化工艺

• 作者: 刘卫国 惠迎雪 赵杨勇
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 超光滑表面 射频磁控溅射 RB-SiC Si平坦化层 正交试验 ICP刻蚀 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 表面光学
• 页码范围: 1-7
• 页数: 7页
• 分类号: O484|TN304
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb20184703.0324001

摘要

采用射频磁控溅射技术在RB-SiC表面沉积Si平坦化层,通过正交试验研究了射频功率、Ar流量和工作气压三个因素对薄膜表面质量和形貌的影响规律,以获取最佳的薄膜沉积参数.射频功率120 W、工作气压1.2 Pa和Ar流量40 sccm条件下获得了最佳质量的平坦化样品,利用电感耦合等离子体对平坦化膜层进行刻蚀抛光,通过Lambda950分光光度计测试不同工艺阶段样品表面的反射率.结果表明,相比于未处理的RB-SiC初始样品,经过平坦化和等离子体刻蚀的样品表面粗糙度标准差值由1.819 nm减小至0.919 nm,样品表面反射率相应地提高了2％.由此说明射频磁控溅射平坦化沉积与电感耦合等离子体刻蚀的组合工艺可实现RB-SiC表面的高质量加工.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘卫国	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	112	575	12.0	17.0
2	惠迎雪	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	38	186	6.0	12.0
3	赵杨勇	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	2	4	1.0	2.0