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InAs/AlSb异质结的Pd/Ti/Pt/Au合金化欧姆接触
InAs/AlSb异质结的Pd/Ti/Pt/Au合金化欧姆接触
作者:
倪海桥
吕红亮
张义门
张玉明
张静
牛智川
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
欧姆接触
快速热退火
InAs/AlSb异质结
摘要:
为了得到较低的接触电阻,研究了帽层未掺杂的InAs/AlSb异质结的Pd/Ti/Pt/Au合金化欧姆接触.利用传输线模型(TLM)测量了接触电阻Rc.在最佳的快速热退火条件为275℃和20 s时,InAs/AlSb异质结的Pd/Ti/Pt/Au接触电阻值为0.128 Ω·mm.TEM观察发现经过快速热退火后Pd已经扩散到半导体中有利于高质量欧姆接触的形成.研究表明经过Pd/Ti/Pt/Au合金化欧姆接触后Rc有明显减小,适用于InAs/AlSb异质结的应用.
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文献信息
篇名
InAs/AlSb异质结的Pd/Ti/Pt/Au合金化欧姆接触
来源期刊
红外与毫米波学报
学科
工学
关键词
欧姆接触
快速热退火
InAs/AlSb异质结
年,卷(期)
2018,(6)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
679-682,687
页数
5页
分类号
TN304.2|TN305
字数
598字
语种
中文
DOI
10.11972/j.issn.1001-9014.2018.06.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张义门
西安电子科技大学宽带隙半导体技术国家重点学科实验室
129
835
15.0
21.0
2
张静
西安电子科技大学宽带隙半导体技术国家重点学科实验室
149
920
17.0
24.0
4
牛智川
中国科学院半导体研究所超晶格国家重点实验室
45
124
5.0
8.0
7
吕红亮
西安电子科技大学宽带隙半导体技术国家重点学科实验室
18
88
5.0
9.0
8
倪海桥
中国科学院半导体研究所超晶格国家重点实验室
14
8
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
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(/年)
引文网络
引文网络
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(0)
共引文献
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节点文献
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二级参考文献(0)
2009(2)
参考文献(2)
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参考文献(1)
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2018(0)
参考文献(0)
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引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
欧姆接触
快速热退火
InAs/AlSb异质结
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外与毫米波学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院上海技术物理所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-9014
CN:
31-1577/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市玉田路500号
邮发代号:
4-335
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
2620
总下载数(次)
3
总被引数(次)
28003
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