原文服务方: 原子能科学技术       
摘要:
利用微束和宽束辐照装置分别对两款65 nm双阱CMOS静态随机存储器(SRAM)进行重离子垂直辐照实验,将多位翻转(multiple-cell upset,MCU)类型、位置、事件数与器件结构布局相结合对单粒子翻转(single-event upset,SEU)的截面、MCU机理进行深入分析.结果表明,微束束斑小且均匀性好,不存在离子入射外围电路的情况;NMOS晶体管引发的MCU与总SEU事件比值高达32%,NMOS晶体管间的电荷共享不可忽略;实验未测得PMOS晶体管引发的MCU,高密度阱接触能有效抑制PMOS晶体管间的电荷共享;减小晶体管漏极与N阱/P阱界面的间距能降低SRAM器件SEU发生概率;减小存储单元内同类晶体管漏极间距、增大存储单元间同类晶体管漏极间距,可减弱电荷共享,从而减小SRAM器件MCU发生概率.
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文献信息
篇名 65nm双阱CMOS静态随机存储器多位翻转微束及宽束实验研究
来源期刊 原子能科学技术 学科
关键词 多位翻转 静态随机存储器 双阱 电荷共享 重离子 微束实验
年,卷(期) 2018,(7) 所属期刊栏目 技术及应用
研究方向 页码范围 1326-1334
页数 9页 分类号 TN99
字数 语种 中文
DOI 10.7538/yzk.2017.youxian.0577
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静态随机存储器
双阱
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研究起点
研究来源
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期刊影响力
原子能科学技术
月刊
1000-6931
11-2044/TL
大16开
北京275信箱65分箱
1959-01-01
中文
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27955
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