单晶硅化学机械抛光的PLC控制系统设计

• 作者: 曲庆韬 王昆
• 来源期刊: 数字技术与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶硅 化学机械抛光 西门子PLCS7-200
• 年，卷（期）: 2018,（11）
• 所属期刊栏目: 数控技术
• 页码范围: 7-8
• 页数: 2页
• 分类号: TN305
• 字数: 1255字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19695/j.cnki.cn12-1369.2018.11.04

摘要

为了完成单晶硅的化学机械抛光,本文提出了一种单晶硅化学机械抛光设备的控制系统设计方法.该控制系统以西门子的PLC S7-200为核心,实现控制单相交流电机的旋转运动和步进电机水平往复周期性运动,实现对不同尺寸的单晶硅晶片设置合适的运动参数,可以得到高表面质量的表面.并针对特定尺寸的单晶硅晶片进行抛光实验,得到满足粗糙度要求的表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王昆	同济大学机械与能源工程学院	33	89	5.0	8.0
2	曲庆韬	同济大学机械与能源工程学院	1	0	0.0	0.0