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后摩尔时代集成电路制造发展趋势以及我国集成电路产业现状
后摩尔时代集成电路制造发展趋势以及我国集成电路产业现状
作者:
吴汉明
康劲
汪涵
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
摩尔定律
光学邻近效应修正
鳍式场效应晶体管
良率提升
集成电路产业链
晶圆代工
集成电路专用设备
集成电路材料
摘要:
集成电路是将电子元件依照电路互连",集成"在晶片上,实现特定功能的电路系统。在当代,集成电路已渗透到社会发展的各个领域,是信息产业高速发展的基础和动力。在经济结构调整中,集成电路产业的战略性、先导性地位凸显,有望从根本上对制造业进行改造,在完成产业升级同时满足国家信息安全的需要。随着需求的不断提升,未来的集成电路需兼具低功耗、小尺寸、高性能等综合素质,传统工艺的改进已不足以满足这些要求。为此,集成电路制造业必须拓展相应制造技术以顺应新的发展趋势。我国集成电路产业近20年来取得了显著发展,总结了国内集成电路产业的发展历程及现状,并对未来发展进行了展望。
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集成电路
特点
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集成电路技术的发展趋势研究
集成电路
发展趋势
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文献信息
篇名
后摩尔时代集成电路制造发展趋势以及我国集成电路产业现状
来源期刊
微纳电子与智能制造
学科
经济
关键词
摩尔定律
光学邻近效应修正
鳍式场效应晶体管
良率提升
集成电路产业链
晶圆代工
集成电路专用设备
集成电路材料
年,卷(期)
2019,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
57-64
页数
8页
分类号
F426.6
字数
语种
DOI
五维指标
传播情况
被引次数趋势
(/次)
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引文网络
引文网络
二级参考文献
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共引文献
(0)
参考文献
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2019(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
摩尔定律
光学邻近效应修正
鳍式场效应晶体管
良率提升
集成电路产业链
晶圆代工
集成电路专用设备
集成电路材料
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子与智能制造
主办单位:
北京方略信息科技有限公司
北京市电子科技情报研究所
出版周期:
季刊
ISSN:
2096-658X
CN:
10-1594/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市东城区北河沿大街79号
邮发代号:
创刊时间:
2019
语种:
chi
出版文献量(篇)
162
总下载数(次)
8
总被引数(次)
19
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