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摘要:
近年来,随着氧化镓(Ga2O3)晶体生长技术取得突破性进展,氧化镓材料及器件的研究与应用成为国际上超宽禁带半导体领域的研究热点.综述了β-Ga2O3衬底的一些优点以及面临的挑战,重点介绍了如何实现良好的欧姆接触.围绕采用低功函数金属、表面预处理、衬底掺杂和引入中间层的方法,阐述了目前国际上金属/β-Ga2O3欧姆接触的最新研究进展.总结了不同实验条件下可以获得的比接触电阻,目前可以获得的最低比接触电阻是4.6×10-6Ω·cm2.最后,预测未来金属/β-Ga2O3欧姆接触的主要研究方向是提高欧姆接触的热稳定性.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 β-Ga2O3欧姆接触的研究进展
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 β-Ga2O3 欧姆接触 功率器件 金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET) 金属电极
年,卷(期) 2019,(9) 所属期刊栏目 技术论坛
研究方向 页码范围 681-690
页数 10页 分类号 TN323.4|TN304.2|TN305
字数 语种 中文
DOI 10.13250/j.cnki.wndz.2019.09.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵超 中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研究中心 35 208 9.0 13.0
5 罗军 中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研究中心 51 222 8.0 12.0
9 杨凯 中国科学技术大学微电子学院 24 297 8.0 17.0
13 刁华彬 中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研究中心 2 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
β-Ga2O3
欧姆接触
功率器件
金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)
金属电极
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
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