聚焦离子束切割法制备多层膜X射线波带片

• 作者: 姚广宇 孔祥东 李艳丽 韩立
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 原子层沉积(ALD) 聚焦离子束(FIB) X射线波带片 显微成像系统 大高宽比
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 314-318
• 页数: 5页
• 分类号: TH742
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2019.04.010

摘要

X射线波带片是X射线显微成像系统中用于聚焦及成像的核心元件,提高波带片性能参数,更利于X射线显微成像技术的广泛应用.选择可精确控制厚度的原子层沉积(ALD)法结合聚焦离子束(FIB)切割法制备出大高宽比X射线波带片结构,即用原子层沉积法在光滑的钨丝表面交替沉积Al2O3/HfO2多层膜,其总层数为360,最外层膜宽度为10 nm.聚焦离子束的加速电压设定为30 kV,先利用束流为1 000 pA的离子束流将Al2O3/HfO2多层膜切割成设计厚度的薄片,再利用束流为350 pA的离子束流对切割的截面进行抛光,最后得到厚度为50 μm、最外层膜宽度为10 nm的大高宽比X射线波带片结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩立	中国科学院电工研究所微纳加工与智能电气设备研究部	98	376	9.0	13.0
5	李艳丽	中国科学院电工研究所微纳加工与智能电气设备研究部	13	65	4.0	8.0
9	姚广宇	中国科学院电工研究所微纳加工与智能电气设备研究部	1	0	0.0	0.0
13	孔祥东	中国科学院电工研究所微纳加工与智能电气设备研究部	4	2	1.0	1.0