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3DIC
CIS
TSV
晶圆级封装工艺流程
化学镀
镍滋生
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 用于扇出型晶圆级封装的铜电沉积
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词
年,卷(期) 2020,(4) 所属期刊栏目 新技术与新工艺
研究方向 页码范围 63-64
页数 2页 分类号 TN304.055
字数 834字 语种 中文
DOI
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相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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3731
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10002
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