沉积温度对脉冲激光沉积法在YSZ(100)衬底上生长 Mn1.56Co0.96Ni0.48O4尖晶石薄膜结构、电学和磁学性能的影响

• 作者: 侯云 刘芳 张韬略 徐德才 林铁
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜技术 脉冲激光沉积 沉积温度 磁学性能
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 页码范围: 678-683
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1|O484.4+2
• 语种: 中文
• DOI: 10.11972/j.issn.1001-9014.2020.06.003

摘要

在YSZ(100)衬底上,采用脉冲激光沉积法在500℃至700℃的不同沉积温度下生长出尖晶石结构的Mn1.56Co0.96Ni0.48O4(MCNO)薄膜.由于沉积温度是制备高质量薄膜的重要因素,因此本文研究了MCNO薄膜结构、电学和磁学性能随沉积温度的变化.通过对X射线衍射图和原子力显微镜图像的分析,发现MCNO薄膜的结晶与沉积温度有很大关系.随着沉积温度的升高,MCNO薄膜的电阻率呈V型变化,其导电过程可以用小极化子跳跃机理来描述.同时,随温度变化的磁化曲线表明所有样品都显示出从铁磁性到顺磁性的转变,且沉积温度为600℃的MCNO薄膜具有216 K的高居里温度.以上研究结果表明,在600℃沉积的MCNO薄膜具有适用于热敏电阻器件和多功能异质结所需的良好性能.