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摘要:
本文研究了具有不同漏端Offset长度(LDO)的非晶铟镓锌氧化物(Amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide,a-IGZO)薄膜晶体管(Thin-Film Transistors,TFT)的电学特性,发现器件的阈值电压(Vth)、亚阈值摆幅(SS)、关态电流(Ioff)与LDO无明显依赖关系.通过分析漏端Offset区域的电流与电压关系,发现其遵循欧姆定律,由此提取出漏端Offset区域电阻(RDO).研究发现RDO与LDO成幂函数关系且幂次随栅源电压(VGS)的增加而增加,由此我们提出RDO的经验模型,同时利用此模型得到漏端Offset a-IGZO TFT的开态电流模型并通过与电流-电压曲线拟合得以验证.
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文献信息
篇名 具有漏端Offset的非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管的特性及开态电流模型
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 漏端Offset 薄膜晶体管 非晶铟镓锌氧化物 电阻 开态电流模型
年,卷(期) 2020,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 953-958
页数 6页 分类号 TN321.5
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2020.05.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵金凤 1 0 0.0 0.0
2 杜孟君 1 0 0.0 0.0
3 张冬利 1 0 0.0 0.0
4 王槐生 3 2 1.0 1.0
5 单奇 1 0 0.0 0.0
6 王明湘 13 29 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
漏端Offset
薄膜晶体管
非晶铟镓锌氧化物
电阻
开态电流模型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
论文1v1指导