等离子体增强的磁控溅射TiSiN薄膜结构与耐蚀性

• 作者: 刘瑞霞 朱福栋 由国艳
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体 磁控溅射 TiSiN薄膜 腐蚀行为
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 11-15
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2021.02.003

摘要

针对磁控溅射固有磁场强度随时间衰减的问题,采用外加磁场增强真空室内等离子密度的方法,在AZ31基体上反应溅射沉积了厚度约2μm的TiSiN薄膜.应用XRD、SEM研究了等离子体增强的磁控溅射方法所制备薄膜的物相组成、结构、表面形貌,利用电化学工作站研究了等离子体增强的磁控溅射薄膜在3.5％NaCl溶液中的腐蚀行为,并与未增强等离子体制备的薄膜做了对比.结果表明:等离子体增强后,薄膜的择优取向发生改变,薄膜致密度更高,薄膜表面粗糙度、缺陷以及晶粒尺寸有所减小,且薄膜在NaCl溶液中的抗腐蚀能力更好,等离子体增强技术对于提高薄膜质量和性能效果显著.