单晶硅窄缝化学机械抛光的控制系统设计

• 作者: 乔晨翊 王昆
• 来源期刊: 数字技术与应用
• 关键词: 化学机械抛光 同步控制 运动控制卡
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 数控技术
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: TG58|TN405
• 语种: 中文
• DOI: 10.19695/j.cnki.cn12-1369.2021.02.04

摘要

具有5-10mm窄缝的单晶硅是研究同步辐射光源的重要部件,国内外对于单晶硅窄缝的轨道抛光的研究微乎其微.本文提出了一种单晶硅窄缝化学机械抛光设备的控制系统设计方法.该控制系统以固高运动控制器和C++Builder软件为核心,实现控制伺服电机的旋转运动和水平往复周期性运动,并使用该系统成功加工出了满足表面质量要求的单晶硅窄缝.