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摘要:
为提高Type-C接口的静电防护性能,提出了基于导流二极管与栅极耦合结构的静电防护架构,用于接口的低压、高压端口.采用齐纳二极管辅助触发的栅极耦合结构(ZCNMOS)泄放静电放电(ESD)大电流,降低触发电压,消除栅接地的NMOS(GGNMOS)中叉指器件不均匀导通的现象;通过大角度离子注入技术,提高器件的ESD防护能力;同时对导流二极管版图进行优化,提高了PN结的周长面积比,减小寄生电容.测试结果表明,器件过流能力由4 mA/μm提高到10 mA/μm,提升了1.5倍;低压端口和高压端口的二次失效电流均大于25 A,抗静电能力达到IEC 61000-4-2接触放电±8 kV,气隙放电±15 kV;CCX端口、SBUX端口和D+、D-端口电容分别为74,6和1.7 pF,满足低电容特性.
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文献信息
篇名 片上多通道低电容系统级静电防护电路设计
来源期刊 电子元件与材料 学科
关键词 系统级ESD ZCNMOS 导流二极管 低电容 TLP测试
年,卷(期) 2021,(9) 所属期刊栏目 研究与试制|Reasearch & Development
研究方向 页码范围 930-935,941
页数 7页 分类号 TN406
字数 语种 中文
DOI 10.14106/j.cnki.1001-2028.2021.0113
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研究主题发展历程
节点文献
系统级ESD
ZCNMOS
导流二极管
低电容
TLP测试
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
出版文献量(篇)
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