极紫外、X射线和中子薄膜光学元件与系统

• 作者: 王占山 黄秋实 张众 伊圣振 李文斌 沈正祥 齐润泽 余俊
• 来源期刊: 光学学报
• 关键词: 极紫外、X射线、中子射线 薄膜 光栅 聚焦成像系统 加工 损伤
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜|Thin Films
• 页码范围: 430-448
• 页数: 19页
• 分类号: O434
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS202141.0131001

摘要

极紫外、X射线和中子光学为现代科学的发展提供了高精度的观测手段,但这些手段的实现需要大量高性能薄膜光学元件和系统的支撑.由于短波长和材料光学常数的限制,短波光学元件的结构、性能和制作技术明显区别于长波光学元件.近二十年来,同济大学精密光学工程技术研究所建立了以短波反射镜为基底的精密加工检测平台,发展了超薄薄膜界面生长调控方法和大尺寸薄膜镀制技术,提出了高效率/高分辨率多层膜微纳结构的衍射理论和制备方法,初步阐明了短波辐照损伤的物理机制,形成了短波薄膜和晶体聚焦成像系统的高精度全流程研制技术,并将该技术成功应用于国内和国际短波光子大科学装置中.本文简要介绍本课题组在上述短波元件和系统领域中的研究进展.