微纳电子技术期刊
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
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16974

微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名: 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来,汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体,通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向,为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄市179信箱46分箱
出版文献量(篇)
3266
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16974
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  • 作者: 熊晨荣 王燕 陈培毅
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  1-6
    摘要: 隧穿二极管是一种很有前途的基于带隙工程的异质结构量子器件,其电流电压(I-Ⅴ)曲线中所呈现的微分负阻特性能够用于开发多种不同的电路功能.在最近的研究中,空穴型双势垒单势阱共振隧穿二极管得到了...
  • 作者: 张邦维
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  7-15
    摘要: 纳米晶体管是尺寸小于100nm的晶体管.纳米晶体管大大提高了晶体管、集成电路、计算机以及其他电子器件的性能.Intel公司正在进行50 nm以下Si晶体管的研制,他们研制的THz CMOS平...
  • 作者: 于文广 贾振斌 魏雨
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  16-19
    摘要: 以ZnSO4@7H2O,FeCl3@6H2O和MnSO4为原料,采用液相沸腾回流法,成功地制备出了纳米锰锌铁氧体.本文着重研究了Fe2+对纳米锰锌铁氧体生成反应的催化作用;研究了在反应前驱物...
  • 作者: 于先进 董志华 薛成山 郭兴龙 高海永
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  20-21,42
    摘要: 用磁控溅射方法制备了粒径大小为20 nm的金红石--TiO2,用X射线(XRD)和扫描电镜(SEM)观察表面形貌,局部表观致密,颗粒大小均匀.
  • 作者: 方仁昌 方昕
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  22-23,46
    摘要: 简述了IBAD(离子束辅助沉积)法制备纳米钛膜的过程中,关键工艺因素是如何将衬底温度维持在一个适当的范围,并运用PID(比例积分微分)调节器较好地实现这一要求的.
  • 作者: 吕苗 张西慧 苗勇
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  24-27,38
    摘要: 由于尺寸的减小和需要产生弹性形变,微机械构件的表面力(表面张力、粘着力)成为影响系统性能的关键因素.本文介绍了造成微构件表面粘着的因素,从材料、工艺和设计等方面综述了减弱或去除微机械构件表面...
  • 作者: 孙振翠 孙海波 王强 裴素华
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  28-31
    摘要: 二氧化钛是一种良好的响应三甲胺气体的敏感材料,然而用它做成传感器后存在一个明显的缺点:阻值太高.文中采用不同气氛热退火和掺杂方法来提高TiO2基材料的电导率,从而制成一种新型低阻敏感元件,对...
  • 作者: 冯勇建 邓俊泳
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  32-34
    摘要: TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂,选择性好,无毒且不污染环境,最重要的是TMAH与CMOS工艺相兼容,符合SOC的发展趋势.TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液,成为实现ME...
  • 作者: 韩育 高学邦
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  35-38
    摘要: 针对0.25μm pHEMT器件,建立了其小信号和非线性等效电路模型,采用窄脉冲测试技术提高了深亚微米器件的测试精度,采用改进的Materh模型提高了模型的模拟精度.已建立的两种0.25μm...
  • 作者: 杜春雷 潘丽 董小春 陈波
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  39-42
    摘要: 建立了连续深浮雕微透镜列阵光刻工艺的数学模型,通过计算机仿真实现了对工艺过程的模拟分析.为刻蚀过程中各参量的选取和刻蚀结果的分析提供了可靠的依据,对整个光刻工艺过程具有指导意义.
  • 作者: 杨忠山 田丰 韩立
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  43-46
    摘要: 化学放大胶(Chemically Amplified Resists,简称CARs)是下一代光刻技术中极具发展潜力的一种光学记录介质.介绍了化学放大胶在电子束光刻技术中图形制作工艺的关键步骤...
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2003年12期
    页码:  47
    摘要:

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

微纳电子技术评价信息

期刊荣誉
1. 俄罗斯《AJ》收录
2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

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