微纳电子技术期刊
出版文献量(篇)
3266
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16974

微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名: 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来,汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体,通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向,为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄市179信箱46分箱
出版文献量(篇)
3266
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  • 作者: 惠瑜 景玉鹏 王磊 高超群
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  65-70,79
    摘要: 简要回顾了传统RCA清洗工艺的历史背景和清洗原理,介绍了RCA清洗随着工艺节点减小存在的局限性.在此基础上,阐述了以超临界二氧化碳(SCCO2)为媒质的新型清洗工艺,该工艺流程可以同时实现超...
  • 作者: 任永学 张世祖 杨红伟 陈宏泰 黄科
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  71-75
    摘要: 从大功率半导体激光器的工作机理出发,对影响激光器电光转换效率的主要因素,如激光器的斜率效率ηd、阈值电流Ith、开启电压Vo、串联电阻Rs以及工作电流I等进行了分析,进而讨论了提高电光转换效...
  • 作者: 刘曦麟 张有润 张波 邓小川
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  76-79
    摘要: 设计了一种应用于4H-SiC BJT的新型结终端结构.该新型结终端结构通过对基区外围进行刻蚀形成单层刻蚀型外延终端,辅助耐压的P+环位于刻蚀型外延终端的表面,采用离子注入的方式,与基极接触的...
  • 作者: 张亚非 胡林 陈长鑫
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  80-84,114
    摘要: 定向排列技术是一维纳米材料应用中的一项关键技术.论述了LB(Langmuir-Blodgett)膜法、介电泳法、接触印刷法和水流法几类定向排列方法及其特点.LB膜法利用材料的两亲特性,将一维...
  • 作者: 刘英斌 李云 林琳 袁凤坡 陈宏泰
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  85-88
    摘要: 重点介绍了670 nm LED材料的结构与制备方法,用MOCVD方法生长了较高压应变的670 nm多量子阱.分析比较了670 nm量子阱室温光荧光谱线宽度的影响因素,指出室温光荧光主要来源于...
  • 作者: 于祥潞 刘金鑫 岳洋 张峰 徐永宽 李强 杨丹丹 殷海丰 程红娟
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  89-92
    摘要: 利用自制立式HVPE设备,在蓝宝石衬底上进行了不同载气情况下AlN的生长试验,生长温度1 000℃.在采用H2作载气情况下,由于预反应严重,没能生长出AlN薄膜,只得到一些白色AlN粉末;而...
  • 作者: 吴义伯 张丛春 张小波 杨春生 王亚攀
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  93-98
    摘要: 使用射频磁控溅射法,在Si片上沉积了TiNi形状记忆合金薄膜,分别采用能谱色散光谱仪(EDS)和差示扫描热量分析(DSC)方法测试了薄膜的成分和相变特征温度,并通过给形状记忆合金(SMA)薄...
  • 作者: 杨拥军 王立发 贾英茜 赵正平
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  99-104
    摘要: 介绍了应用于通信领域的电容式RF MEMS谐振器及其在通信系统小型化中的优势.对电容式微机械谐振器进行了综合分析,包括基本工作过程分析、基本参数的理论分析及等效电路的分析.介绍了目前几种常用...
  • 作者: 刘景全 周然 徐旻 朱军 陈翔 陈迪
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  105-109
    摘要: 介绍了一种新型的、基于Cu牺牲层的聚酰亚胺图形化方法制备视网膜电极的MEMS工艺,并对其电化学性能进行了表征.该工艺创新性地以Cu作为衬底聚酰亚胺图形化的牺牲层,以PDMS(聚二甲基硅氧烷)...
  • 作者: 刘玉岭 康海燕 武彩霞 牛新环 苏艳勤
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  110-114
    摘要: 针对多层Cu布线化学机械抛光后去除表面吸附颗粒时难以解决的氧化腐蚀问题,分析了颗粒在抛光后Cu表面上存在的两种吸附状态即物理吸附和化学吸附.采用在清洗剂中加入非离子表面活性剂的方法,使Cu表...
  • 作者: 刘明 牛洁斌 谢常青 赵珉 陈宝钦
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  115-120
    摘要: 准确提取电子散射参数是确保纳米级电子束光刻邻近效应校正精度的关键.采用了一种不基于线宽测量和非线性曲线拟合的电子散射参数提取的方法.邻近效应校正的近似函数采用双高斯分布,其中η的提取是基于设...
  • 作者: 万青松 刘明 吴秀龙 潘一鸣 谢常青 贾佳 陈军宁
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  121-124
    摘要: 基于衍射光学中的角谱理论,针对一种分布为同心3环、相位为0.9π,0和0.9π的结构进行深入分析,提出一种10×10的3环2值位相环阵列结构,并与二元光学中的10×10的菲涅尔波带片阵列结构...
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2010年2期
    页码:  125-128
    摘要:

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

微纳电子技术评价信息

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2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

微纳电子技术统计分析

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