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As^+,Si^+双注入GaAs瞬态退火的行为
As^+,Si^+双注入GaAs瞬态退火的行为
作者:
王渭源
范伟栋
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GAAS
Si^+
As^+
离子注入
瞬态退火
摘要:
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篇名
As^+,Si^+双注入GaAs瞬态退火的行为
来源期刊
科技通讯(上海船厂)
学科
工学
关键词
GAAS
Si^+
As^+
离子注入
瞬态退火
年,卷(期)
1989,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
32-35
页数
4页
分类号
TN304.23
字数
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As^+
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瞬态退火
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研究来源
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期刊影响力
科技通讯(上海船厂)
主办单位:
上海求新造船厂科技办公室
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
上海市机厂路132号
邮发代号:
创刊时间:
语种:
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142
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