论文降重
免费查重- 钛学术文献服务平台 \
- 学术期刊 \
- 综合期刊 \
- 其它期刊 \
- 等离子体应用技术快报期刊 \
用ECR反应性等离子沉积非晶和多晶硅薄膜
推荐文章
多晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积低温制备工艺
电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积
多晶硅薄膜
低温生长
SiCl4/H2为气源低温沉积多晶硅薄膜光电特性的研究
多晶硅薄膜
持续性光电导
晶化率
大气环境下多晶硅薄膜的疲劳性能
微机电系统
多晶硅
薄膜
疲劳
多晶硅薄膜材料参数的在线测试系统
多晶硅
薄膜
材料参数
在线测试
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
| 篇名 | 用ECR反应性等离子沉积非晶和多晶硅薄膜 | ||
| 来源期刊 | 等离子体应用技术快报 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 电子回旋共振 等离子体沉积 非晶硅 多晶硅 薄膜 | ||
| 年，卷（期） | 1994,（7） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 6-7 | |
| 页数 | 2页 | 分类号 | TN304.12 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
五维指标
引文网络
引文网络
二级参考文献 (0)
共引文献 (0)
参考文献 (0)
节点文献
引证文献 (0)
同被引文献 (0)
二级引证文献 (0)
1994(0)
- 参考文献(0)
- 二级参考文献(0)
- 引证文献(0)
- 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
电子回旋共振
等离子体沉积
非晶硅
多晶硅
薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
等离子体应用技术快报
主办单位：
核工业西南物理研究院
出版周期：
月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
四川省成都市432信箱
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
864
总下载数（次）
2
总被引数（次）
0
期刊文献
相关文献
推荐文献
- 期刊分类
- 期刊（年）
- 期刊（期）
- 期刊推荐
等离子体应用技术快报2000
等离子体应用技术快报1999
等离子体应用技术快报1998
等离子体应用技术快报1997
等离子体应用技术快报1996
等离子体应用技术快报1995
等离子体应用技术快报1994
等离子体应用技术快报1994年第9期
等离子体应用技术快报1994年第8期
等离子体应用技术快报1994年第7期
等离子体应用技术快报1994年第6期
等离子体应用技术快报1994年第5期
等离子体应用技术快报1994年第4期
等离子体应用技术快报1994年第2期
等离子体应用技术快报1994年第12期
等离子体应用技术快报1994年第11期
等离子体应用技术快报1994年第10期
等离子体应用技术快报1994年第1期
