新型氧敏CeO2-x薄膜的制备及结构研究

• 作者: 刘振祥 杜新华 王燕斌 褚武扬 谢侃
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化铈 薄膜 结构 显微照片
• 年，卷（期）: 1998,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 198-201
• 页数: 4页
• 分类号: TB4
• 字数: 2391字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.1998.03.006

摘要

用射频磁控溅射法制备了CeO2-x高温氧敏薄膜.通过改变O2/Ar比,制备出不同组分和结构的CeO2-x薄膜.用Ce3d的XPS谱计算了Ce3+的浓度.XRD和AFM分析表明,薄膜经空气中高温退火后,形成了立方体CaF2型小晶粒,晶粒大小明显依赖于退火条件和膜厚.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	褚武扬	北京科技大学材料物理系	135	889	17.0	22.0
3	王燕斌	北京科技大学材料物理系	44	250	9.0	13.0
5	刘振祥	中国科学院物理研究所	4	9	2.0	3.0
6	谢侃	中国科学院物理研究所	4	9	2.0	3.0
7	杜新华	北京科技大学材料物理系	1	1	1.0	1.0