氮氧化硅薄膜制备方法的研究

• 作者: 孟祥森 杨辉 葛曼珍 袁骏 马青松
• 来源期刊: 材料科学与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 氮氧化硅 薄膜 制备 化学气相沉积 物理气相沉积 高温氮化
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 页码范围: 10-13
• 分类号: TQ126.2+4|TN304.055
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.1999.04.003

摘要

氮氧化硅薄膜综合了SiO2膜和Si3N4膜的优点,具有优秀的光电性能,力学性能和稳定性能,已经在光电领域获得了广泛地应用,此外在材料改性方面也有广阔的应用前景.本文综合评述了几种氮氧化硅薄膜的制备方法,比较了各自的优缺点,并指出了今后制备方法的发展趋势.