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高性能a-Si:H TFT开关器件的研制
高性能a-Si:H TFT开关器件的研制
作者:
刘传珍
刘宏武
吴渊
廖燕平
朱永福
李牧菊
杨柏梁
王刚
袁剑峰
邵喜斌
黄锡珉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
a-Si
HTFT开关器件
有源层
栅绝缘层
界面特性
摘要:
介绍了a-Si:H TFT开关器件的有源层、栅绝缘层、欧姆接触层以及界面特性的研究工作.研制了a-Si∶H TFT单管器件,其开关电流比达到6个数量级,为最终研制a-Si∶H TFT AMLCD视频图像显示器奠定了坚实的基础.
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电力线
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不同双栅极设计对a-Si:H TFT特性影响
高开口率高级超维场转换技术
非晶硅
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文献信息
篇名
高性能a-Si:H TFT开关器件的研制
来源期刊
液晶与显示
学科
工学
关键词
a-Si
HTFT开关器件
有源层
栅绝缘层
界面特性
年,卷(期)
1999,(3)
所属期刊栏目
研究报告
研究方向
页码范围
181-186
页数
分类号
TN141.9
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1007-2780.1999.03.005
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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共引文献
(2)
参考文献
(1)
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a-Si
HTFT开关器件
有源层
栅绝缘层
界面特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
液晶与显示
主办单位:
中科院长春光学精密机械与物理研究所
中国光学光电子行业协会液晶分会
中国物理学会液晶分会
出版周期:
月刊
ISSN:
1007-2780
CN:
22-1259/O4
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-203
创刊时间:
1986
语种:
chi
出版文献量(篇)
3141
总下载数(次)
7
总被引数(次)
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