基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
旁栅效应是制约GaAs集成电路性能和集成度的有害寄生效应。本文研究了MESFET电路的旁栅效应的光敏特性和迟滞现象 ,认为这两个现象可能与衬底深能级 (如EL2 )有密切的关系 ,通过减小衬底杂质补偿度有可能减轻旁栅效应影响。
推荐文章
钝化介质层对功率GaAs MESFET的栅-漏击穿特性影响
栅-漏极电容-频率
高频电容-电压
栅-漏反向击穿电压
慢界面陷阱密度
钝化层
GaAs MESFET旁栅迟滞现象与沟道电流数据采集时间的关系
旁栅效应
沟道电流
迟滞现象
EL2深能级
VGF法半绝缘GaAs单晶EL2浓度优化研究
砷化镓
垂直梯度凝固法
半绝缘
晶体生长
EL2
热处理和淬火影响GaAs中EL2浓度机理的研究
半绝缘砷化镓
热处理
淬火
EL2浓度
砷沉淀
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 GaAs衬底深能级EL2与电路旁栅效应的光敏特性和迟滞现象
来源期刊 半导体杂志 学科 工学
关键词 旁栅效应 光敏特性 迟滞现象 深级级 砷化镓衬底
年,卷(期) 2000,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 23-26
页数 4页 分类号 TN304.23
字数 语种
DOI
五维指标
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (3)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2000(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
旁栅效应
光敏特性
迟滞现象
深级级
砷化镓衬底
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体杂志
季刊
1005-3077
12-1134/TN
16开
天津市河西区陈塘庄岩峰路
1976
chi
出版文献量(篇)
478
总下载数(次)
1
总被引数(次)
1404
论文1v1指导