艺参数对 a-CNx膜沉积的影响

• 作者: 宋力昕 江伟辉 田静芬 肖兴成 胡行方
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: a-CNx膜 工艺参数 沉积
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 183-187
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2943字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2000.01.033

摘要

研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响. 实验结果表明: N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量. 溅射功率的提高增加了沉积速率. 偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不仅使薄膜致密、表面光滑,而且还可以提高膜中的N含量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋力昕	中国科学院上海硅酸盐研究所	51	585	15.0	22.0
2	胡行方	中国科学院上海硅酸盐研究所	62	2055	24.0	44.0
3	肖兴成	中国科学院上海硅酸盐研究所	9	195	8.0	9.0
4	江伟辉	中国科学院上海硅酸盐研究所	10	220	8.0	10.0
5	田静芬	中国科学院上海硅酸盐研究所	2	18	2.0	2.0