微波退火非晶硅薄膜低温晶化研究

• 作者: 孙国才 徐重阳 曾祥斌 饶瑞
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 微波退火 低温晶化 非晶硅薄膜 多晶硅薄膜
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 53-55
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 1428字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2001.01.015

摘要

多晶硅薄膜晶体管以其独特的优点在液晶显示领域中起着重要的作用。为了满足在普通玻璃衬底上制备多晶硅薄膜晶体管有源矩阵液晶显示器，低温制备（＜600°C）高质量多晶硅薄膜已成为研究热点。文章研究了一种低温制备多晶硅薄膜的新工艺：微波退火非晶硅薄膜固相晶化法，利用X射线衍射、拉曼光谱和扫描电镜分析了微波退火工艺对非晶硅薄膜固相晶化的影响，成功实现了低温制备多晶硅薄膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	饶瑞	华中科技大学电子科学与技术系	9	64	6.0	8.0
2	徐重阳	华中科技大学电子科学与技术系	85	592	12.0	19.0
3	曾祥斌	华中科技大学电子科学与技术系	45	285	10.0	14.0
4	孙国才	华中科技大学物理系	4	34	3.0	4.0