射频磁控溅射法制备NiAl纳米晶化合物涂层

• 作者: 章跃
• 来源期刊: 机械设计与制造工程
• 学科: 工学
• 关键词: NiAl涂层 显微组织 射频溅射 纳米
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 新技术.新工艺
• 页码范围: 64-65
• 页数: 2页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 1709字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-1616.2001.03.028

摘要

介绍一种利用射频磁控溅射法和一个由纯Ni和纯Al合成的特制靶材制备NiAl纳米晶涂层的新工艺，涂层可沉积在工业纯铝、不锈钢以及硼硅酸盐玻璃等多种基体上。XRD 、TEM和SAED分析表明，该涂层呈规则的立方晶体结构，晶粒尺寸＜10nm，且沉积在硼硅酸盐玻璃上的涂层具有(111)择尤取向，涂层厚度约10μm。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	章跃	淮阴工学院机械工程系	37	291	8.0	16.0