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硅单电子晶体管制备及特性
硅单电子晶体管制备及特性
作者:
卢刚
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
单电子晶体管
库仑阻塞
单电子隧穿
量子点
摘要:
采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀等工艺,在P型SIMOX硅片上成功地制备了一种单电子晶体管.提供了一种制备量子线和量子点的工艺方法,在器件的电流、电压特性上可观测到明显的库仑阻塞效应和单电子隧穿效应.该器件的工作温度可达到77K.
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单电子晶体管
库仑阻塞
单电子隧穿
量子点
电子束光刻技术
单电子晶体管隧穿电阻的量子计算
单电子晶体管
库仑阻断
隧穿电阻
量子计算
微扰论
内容分析
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引文网络
相关学者/机构
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期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
硅单电子晶体管制备及特性
来源期刊
西安理工大学学报
学科
工学
关键词
单电子晶体管
库仑阻塞
单电子隧穿
量子点
年,卷(期)
2002,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
148-150
页数
3页
分类号
TN305|O488
字数
480字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1006-4710.2002.02.009
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
卢刚
西安理工大学自动化与信息工程学院
16
38
3.0
5.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
单电子晶体管
库仑阻塞
单电子隧穿
量子点
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
西安理工大学学报
主办单位:
西安理工大学
出版周期:
季刊
ISSN:
1006-4710
CN:
61-1294/N
开本:
大16开
出版地:
西安市金花南路5号
邮发代号:
创刊时间:
1978
语种:
chi
出版文献量(篇)
2223
总下载数(次)
6
总被引数(次)
21166
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