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摘要:
采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀等工艺,在P型SIMOX硅片上成功地制备了一种单电子晶体管.提供了一种制备量子线和量子点的工艺方法,在器件的电流、电压特性上可观测到明显的库仑阻塞效应和单电子隧穿效应.该器件的工作温度可达到77K.
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单电子晶体管
库仑阻塞
单电子隧穿
量子点
电子束光刻技术
单电子晶体管隧穿电阻的量子计算
单电子晶体管
库仑阻断
隧穿电阻
量子计算
微扰论
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 硅单电子晶体管制备及特性
来源期刊 西安理工大学学报 学科 工学
关键词 单电子晶体管 库仑阻塞 单电子隧穿 量子点
年,卷(期) 2002,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 148-150
页数 3页 分类号 TN305|O488
字数 480字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-4710.2002.02.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 卢刚 西安理工大学自动化与信息工程学院 16 38 3.0 5.0
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2013(1)
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研究主题发展历程
节点文献
单电子晶体管
库仑阻塞
单电子隧穿
量子点
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
西安理工大学学报
季刊
1006-4710
61-1294/N
大16开
西安市金花南路5号
1978
chi
出版文献量(篇)
2223
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6
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21166
论文1v1指导